MOSFET
| MOSFET | |||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| |||||||||
| |||||||||
| |||||||||
| Wikidata C:Commons | |||||||||
En electrónica, o transistor de efecto de campo de metal-óxido-semicondutor (en inglés: metal–oxide–semiconductor field-effect transistor abreviado como MOSFET, MOS-FET, MOS FET ou transistor MOS) é un tipo de transistor de efecto de campo (FET), fabricado máis comunmente mediante a oxidación controlada do silicio. Ten unha porta illada, cuxa tensión determina a condutividade do dispositivo. Esta capacidade de cambiar a condutividade coa cantidade de tensión aplicada pódese usar para amplificar ou conmutar sinais electrónicos.[1] O termo transistor de efecto de campo metal-illante-semicondutor (MISFET) é case sinónimo de MOSFET. Outro termo case sinónimo é transistor de efecto de campo de porta illada (IGFET).[2]
Visión xeral
[editar | editar a fonte]O físico Julius Edgar Lilienfeld propuxo por primeira vez o concepto dun transistor de efecto de campo (FET) en 1925, pero non foi posible construír un dispositivo funcional nese momento.[3] O primeiro transistor de efecto de campo de metal-óxido-semicondutor (MOSFET) funcional foi inventado en 1959 polos enxeñeiros Mohamed Atalla e Dawon Kahng nos Laboratorios Bell.[4][5][6][7][8][9] O seu avance — a fabricación dun transistor de efecto de campo práctico, facilitado polo traballo anterior de Atalla sobre a pasivación da superficie do silicio e a oxidación térmica — revolucionou a electrónica e abriu o camiño para radios, calculadoras, ordenadores e outros dispositivos electrónicos máis pequenos e baratos.[10]
A principal vantaxe dun MOSFET é que case non require corrente de entrada para controlar a corrente de carga en condicións de estado estacionario ou de baixa frecuencia, especialmente en comparación cos transistores de unión bipolar (BJT). Non obstante, a altas frecuencias ou ao conmutar rapidamente, un MOSFET pode requirir unha corrente significativa para cargar e descargar a súa capacitancia de porta. Nun MOSFET de modo de mellora, a tensión aplicada ao terminal de porta aumenta a condutividade do dispositivo. Nos transistores de modo de esgotamento, a tensión aplicada na porta reduce a condutividade.[11]
O termo «metal» no nome MOSFET ás veces pódese considerar inapropiado, porque o material da porta pode ser unha capa de polisilicio (silicio policristalino). Do mesmo xeito, a palabra «óxido» no nome tamén pode ser un termo inapropiado, xa que se usan diferentes materiais dieléctricos co obxectivo de obter canles fortes con voltaxes aplicadas máis pequenas.
O MOSFET é, de lonxe, o transistor máis común nos circuítos dixitais, xa que un chip de memoria ou un microprocesador poden incluír miles de millóns. Como os MOSFET pódense fabricar cun canal de tipo p ou de tipo n, pódense usar pares complementarios de transistores MOS para crear circuítos de conmutación con consumo de enerxía moi baixo, en forma de lóxica CMOS.[1]
Notas
[editar | editar a fonte]- 1 2 Teodósio Soares, Carlos Fernando. "Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor (MOSFET)" (PDF) (en portugués). UFRJ. Consultado o 2026-05-08.
- ↑ R. Kuphaldt, Tony (2021-11-06). "Insulated-gate Field-effect Transistors (MOSFET)". CircuitBread (en inglés). Consultado o 2026-05-08.
- ↑ "Patent 272437 Summary". Canadian Patents Database (en inglés).
- ↑ "On this day in 1959, The MOSFET transistor was invented by Mohamed M. Atalla and Dawon Kahng at Bell Labs". LinkedIn (en inglés). Nokia Bell Labs. Consultado o 2026-04-12.
- ↑ "On this day in 1959, The MOSFET transistor was invented by Mohamed M. Atalla and Dawon Kahng at Bell Labs". X (en inglés). Bell Labs. Consultado o 2026-04-12.
- ↑ "Triumph of the MOS Transistor". YouTube (en inglés). Computer History Museum. 2010-08-06. Consultado o 2026-04-12.
- ↑ "Awards". Nokia Bell Labs (en inglés). Consultado o 2026-04-12.
- ↑ Leibson, Steven (2023-04-03). "A Brief History of the MOS transistor, Part 1: Early Visionaries". EEJournal (en inglés). Consultado o 2026-04-12.
- ↑ "Martin (John) M. Atalla". National Inventors Hall of Fame (en inglés). Consultado o 2026-04-13.
- ↑ Kim, Seongjae; Seo, Juhyung; Choi, Junhwan; Yoo, Hocheon (2022-10-07). "Vertically Integrated Electronics: New Opportunities from Emerging Materials and Devices". Nano-Micro Letters (en inglés) (Springer Nature) 14 (1). PMC 9547046. doi:10.1007/s40820-022-00942-1.
- ↑ "D-MOSFET OPERATION AND BIASING" (PDF) (en inglés). Arquivado dende o orixinal (PDF) o 2022-10-22.
Véxase tamén
[editar | editar a fonte]| Wikimedia Commons ten máis contidos multimedia na categoría: MOSFET |
Ligazóns externas
[editar | editar a fonte]- C. Bean, John. "Virtual Lab: How Semiconductors and Transistors Work". We Can Figure This Out.org (en inglés).
Este artigo sobre unha tecnoloxía é, polo de agora, só un bosquexo. Traballa nel para axudar a contribuír a que a Galipedia mellore e medre. Existen igualmente outros artigos relacionados con este tema nos que tamén podes contribuír. |